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《稀土抛光粉》可供材料化学、无机化学、固体化学等教学、生产和科研单位的有关人员以及大专院校有关专业的教师、学生参考，特别是可供从事稀土抛光粉研发、生产和推广的专业人员参考。
目录
前言
第1章稀土抛光粉概述
1.1抛光与抛光粉
1.1.1抛光
1.1.2抛光粉
1.2稀土抛光粉
1.2.1稀土抛光粉的发展历程
1.2.2稀土抛光粉的分类
1.2.3稀土抛光粉的应用
1.3稀土抛光粉生产的主要工艺流程
1.3.1低铈稀土抛光粉的制备
1.3.2中铈稀土抛光粉的制备
1.3.3高铈稀土抛光粉的制备
1.4稀土抛光粉展望
参考文献
第2章稀土抛光粉的制备及其前驱体制备化学
2.1稀土抛光粉的制备
2.2稀土抛光粉前驱体的制备
2.2.1碳酸氢铵为沉淀剂
2.2.2碳酸钠及碳酸氢钠为沉淀剂
2.2.3草酸盐和NH3·H2O为沉淀剂
2.2.4添加剂的影响
2.3氟化处理
2.3.1氧氟酸氟化
2.3.2氟化盐氟化处理
2.4前驱体的粉碎过程
参考文献
第3章稀土抛光粉前驱体焙烧过程及其固体化学
3.1铈基抛光粉的固体化学基础
3.1.1CeO2的化学和物理特性
3.1.2CeO2与三价稀上氧化物的晶体结构
3.1.3铈基稀土抛光粉的晶体结构与形貌特征
3.1.4前驱体焙烧过程中的固相反应基础
3.2前驱体干燥过程
3.3铈基稀土抛光粉的焙烧过程
3.3.1碳酸铈前驱体的焙烧过程
3.3.2碳酸铈镧前驱体的焙烧过程
3.3.3氟碳酸铈前驱体的焙烧过程
3.3.4氟碳酸镧铈前驱体的焙烧过程
3.3.5焙烧后铈基稀土抛光粉的结构与形貌特征
3.3.6草酸铈前驱体的焙烧过程
3.3.7氟碳铈矿的焙烧过程
3.4纳米级稀土抛光粉
3.4.1纳米级稀土抛光粉制备技术
3.4.2复合稀上抛光粉
3.5分级
参考文献
第4章稀土抛光粉的作用机理及影响因素
4.1玻璃抛光
4.1.1玻璃的结构
4.1.2玻璃组分与抛光性能
4.1.3不同抛光粉对玻璃的抛光能力
4.2抛光粉的作用机理
4.2.1抛光的过程
4.2.2玻璃抛光粉抛光机理
4.2.3CeO2抛光机理
4.3影响抛光粉抛光能力的主要因素
4.3.1稀土抛光粉化学组成的影响
4.3.2稀土抛光粉中铈的价态
4.3.3稀土抛光粉的结构与彤貌
4.3.4抛光粉的颗粒度（粒度）
4.3.5抛光粉的硬度
4.3.6抛光粉的化学活性
4.3.7抛光粉的比表面积
4.4抛光液（抛光浆料）
4.4.1浆料中抛光粉的浓度
4.4.2抛光液的稳定性、分散性和悬浮性
4.4.3抛光液的pH值
4.4.4抛光浆料的压力、温度和时间对抛光能力的影响
4.4.5抛光模的选择
参考文献
第5章抛光粉的性能评价指标及其方法
5.1化学成分的测定
5.2热分析
5.3结构特征分析
5.3.1X射线衍射物相分析
5.3.2X射线衍射峰强度
5.3.3X射线衍射分析测定品格常数
5.3.4X射线衍射对抛光粉晶粒尺寸的测定
5.3.5品粒尺寸和结晶形貌之间的关系
5.3.6品格畸变率
5.3.7密度测定
5.3.8硬度测定
5.4粒度分析
5.4.1筛分法
5.4.2粒度仪测粒度
5.4.3团聚粒径
5.5颗粒形貌分析
5.6颗粒比表而积分析
5.7外观颜色
5.8抛光效率与划痕
5.8.1抛光效率
5.8.2划痕或划伤率
5.9浆料的稳定性
5.9.1抛光液浓度
5.9.2粉体悬浮性
参考文献
文摘
版权页：
高性能稀土抛光粉一般具有颗粒细、粒度分布窄、腐蚀性小、抛光能力强、稳定性好等特点。主要的制备技术路线大致分为两种：一种是通过高能球磨，高精度分级；另一种是控制化学反应条件制备适宜抛光粉的前驱体，然后焙烧成抛光粉。随着对抛光粉质量标准的提高，后者应用日益广泛。
控制原料粒度通常采用化学方法，一般是从原料的生产工艺入手，通过控制沉淀条件和结晶速率制备合适粒径的前驱体，再经过焙烧以达到控制铈基抛光粉粒度的目的，但这种方法，操作起来比较复杂，工艺参数要求严格，成本较高，仅在高性能抛光粉生产中采用，而在生产低品位抛光粉时较少使用。随着对抛光粉技术要求不断提高，化学方法越来越受到重视，也日益广泛使用。
制备铈基抛光粉前驱体的方法多种多样，有稀土硫酸盐、草酸盐、碳酸盐及稀土氢氧化物等沉淀方法。沉淀过程中采用溶液反应能使沉淀均匀。各种前驱体制备方法人致工艺过程为：先配置一定浓度的稀土盐溶液，在适宜的沉淀条件下，加入沉淀剂（草酸、碳酸氢铵、碳酸钠、氨水等）沉淀，经过滤、洗涤、烘干等工序，即可制得各类抛光粉前驱体。其中沉淀剂的选择至关重要，不同沉淀剂所采用的沉淀过程各异，制备出的前驱体也多种多样，由于铈基抛光粉的形貌与其前驱体具有遗传性，不同前驱体的结晶颗粒度、晶体形貌、品型结构差别很大，直接影响后期的焙烧过程以及产品质量。
《稀土抛光粉》可供材料化学、无机化学、固体化学等教学、生产和科研单位的有关人员以及大专院校有关专业的教师、学生参考，特别是可供从事稀土抛光粉研发、生产和推广的专业人员参考。
目录
前言
第1章稀土抛光粉概述
1.1抛光与抛光粉
1.1.1抛光
1.1.2抛光粉
1.2稀土抛光粉
1.2.1稀土抛光粉的发展历程
1.2.2稀土抛光粉的分类
1.2.3稀土抛光粉的应用
1.3稀土抛光粉生产的主要工艺流程
1.3.1低铈稀土抛光粉的制备
1.3.2中铈稀土抛光粉的制备
1.3.3高铈稀土抛光粉的制备
1.4稀土抛光粉展望
参考文献
第2章稀土抛光粉的制备及其前驱体制备化学
2.1稀土抛光粉的制备
2.2稀土抛光粉前驱体的制备
2.2.1碳酸氢铵为沉淀剂
2.2.2碳酸钠及碳酸氢钠为沉淀剂
2.2.3草酸盐和NH3·H2O为沉淀剂
2.2.4添加剂的影响
2.3氟化处理
2.3.1氧氟酸氟化
2.3.2氟化盐氟化处理
2.4前驱体的粉碎过程
参考文献
第3章稀土抛光粉前驱体焙烧过程及其固体化学
3.1铈基抛光粉的固体化学基础
3.1.1CeO2的化学和物理特性
3.1.2CeO2与三价稀上氧化物的晶体结构
3.1.3铈基稀土抛光粉的晶体结构与形貌特征
3.1.4前驱体焙烧过程中的固相反应基础
3.2前驱体干燥过程
3.3铈基稀土抛光粉的焙烧过程
3.3.1碳酸铈前驱体的焙烧过程
3.3.2碳酸铈镧前驱体的焙烧过程
3.3.3氟碳酸铈前驱体的焙烧过程
3.3.4氟碳酸镧铈前驱体的焙烧过程
3.3.5焙烧后铈基稀土抛光粉的结构与形貌特征
3.3.6草酸铈前驱体的焙烧过程
3.3.7氟碳铈矿的焙烧过程
3.4纳米级稀土抛光粉
3.4.1纳米级稀土抛光粉制备技术
3.4.2复合稀上抛光粉
3.5分级
参考文献
第4章稀土抛光粉的作用机理及影响因素
4.1玻璃抛光
4.1.1玻璃的结构
4.1.2玻璃组分与抛光性能
4.1.3不同抛光粉对玻璃的抛光能力
4.2抛光粉的作用机理
4.2.1抛光的过程
4.2.2玻璃抛光粉抛光机理
4.2.3CeO2抛光机理
4.3影响抛光粉抛光能力的主要因素
4.3.1稀土抛光粉化学组成的影响
4.3.2稀土抛光粉中铈的价态
4.3.3稀土抛光粉的结构与彤貌
4.3.4抛光粉的颗粒度（粒度）
4.3.5抛光粉的硬度
4.3.6抛光粉的化学活性
4.3.7抛光粉的比表面积
4.4抛光液（抛光浆料）
4.4.1浆料中抛光粉的浓度
4.4.2抛光液的稳定性、分散性和悬浮性
4.4.3抛光液的pH值
4.4.4抛光浆料的压力、温度和时间对抛光能力的影响
4.4.5抛光模的选择
参考文献
第5章抛光粉的性能评价指标及其方法
5.1化学成分的测定
5.2热分析
5.3结构特征分析
5.3.1X射线衍射物相分析
5.3.2X射线衍射峰强度
5.3.3X射线衍射分析测定品格常数
5.3.4X射线衍射对抛光粉晶粒尺寸的测定
5.3.5品粒尺寸和结晶形貌之间的关系
5.3.6品格畸变率
5.3.7密度测定
5.3.8硬度测定
5.4粒度分析
5.4.1筛分法
5.4.2粒度仪测粒度
5.4.3团聚粒径
5.5颗粒形貌分析
5.6颗粒比表而积分析
5.7外观颜色
5.8抛光效率与划痕
5.8.1抛光效率
5.8.2划痕或划伤率
5.9浆料的稳定性
5.9.1抛光液浓度
5.9.2粉体悬浮性
参考文献
文摘
版权页：
高性能稀土抛光粉一般具有颗粒细、粒度分布窄、腐蚀性小、抛光能力强、稳定性好等特点。主要的制备技术路线大致分为两种：一种是通过高能球磨，高精度分级；另一种是控制化学反应条件制备适宜抛光粉的前驱体，然后焙烧成抛光粉。随着对抛光粉质量标准的提高，后者应用日益广泛。
控制原料粒度通常采用化学方法，一般是从原料的生产工艺入手，通过控制沉淀条件和结晶速率制备合适粒径的前驱体，再经过焙烧以达到控制铈基抛光粉粒度的目的，但这种方法，操作起来比较复杂，工艺参数要求严格，成本较高，仅在高性能抛光粉生产中采用，而在生产低品位抛光粉时较少使用。随着对抛光粉技术要求不断提高，化学方法越来越受到重视，也日益广泛使用。
制备铈基抛光粉前驱体的方法多种多样，有稀土硫酸盐、草酸盐、碳酸盐及稀土氢氧化物等沉淀方法。沉淀过程中采用溶液反应能使沉淀均匀。各种前驱体制备方法人致工艺过程为：先配置一定浓度的稀土盐溶液，在适宜的沉淀条件下，加入沉淀剂（草酸、碳酸氢铵、碳酸钠、氨水等）沉淀，经过滤、洗涤、烘干等工序，即可制得各类抛光粉前驱体。其中沉淀剂的选择至关重要，不同沉淀剂所采用的沉淀过程各异，制备出的前驱体也多种多样，由于铈基抛光粉的形貌与其前驱体具有遗传性，不同前驱体的结晶颗粒度、晶体形貌、品型结构差别很大，直接影响后期的焙烧过程以及产品质量。
| ISBN | 7030520521,9787030520524 |
|---|---|
| 出版社 | 科学出版社 |
| 作者 | 洪广言 |
| 尺寸 | 5 |