编辑推荐
特定产业的国内外知名企业的专利数据分析及行业分析预测。本书是了解相关行业技术发展现状并预测为了走向，企业做好专利预警的必备工具书。
作者简介
作者：审查业务部的各报告课题组，及相关行业协会。每个课题组有20-30个人组成，分别进行数据收集、整理、分析、制图、审核、统稿。
目录
第1章研究概述
1.1研究背景
1.1.1技术概况
1.1.2产业现状
1.1.3行业需求
1.2研究对象和方法
1.2.1技术分解
1.2.2数据检索
1.2.3查全率、查准率评估
1.2.4相关事项约定
第2章芯片制造工艺专利现状分析
2.1概述
2.1.1外延工艺简述
2.1.2光刻工艺简述
2.1.3刻蚀工艺简述
2.1.4掺杂工艺简述
2.1.5铜互连工艺简介
2.2全球专利申请状况
2.2.1全球专利申请态势分析
2.2.2全球主要申请人分析
2.2.3专利申请国别地区分布
2.3中国专利申请状况
2.3.1中国专利申请态势分析
2.3.2中国主要申请人分析
2.3.3法律状态分析
2.4小结与建议
第3章光刻技术专利现状分析
3.1概述
3.2浸没式光刻技术的专利分析
3.2.1全球专利申请状况
3.2.2中国专利申请状况
3.3多重图形光刻技术的专利分析
3.3.1全球专利申请状况
3.3.2中国专利申请状况
3.4电子束光刻技术的专利现状
3.4.1全球专利申请状况
3.4.2中国专利申请状况
3.5小结与建议
第4章先进逻辑器件结构及其制造工艺专利现状分析
4.1FinFET技术的专利现状
4.1.1概述
4.1.2全球专利申请态势分析
4.1.3中国专利申请态势分析
4.1.4FinFET技术发展路线
4.2FDSOI技术的专利现状
4.2.1概述
4.2.2全球专利申请态势分析
4.2.3中国专利申请态势分析
4.2.4FDSOI技术技术发展路线
4.3NWFET技术的专利现状
4.3.1概述
4.3.2全球专利申请态势分析
4.3.3中国专利申请态势分析
4.4小结与建议
第5章3D
NAND制造工艺的专利现状分析
5.1概述
5.2全球专利申请态势分析
5.2.1申请趋势分析
5.2.2主要技术分布
5.2.3重要申请人分析
5.2.4重要发明人分析
5.3中国专利申请态势分析
5.3.1申请趋势分析
5.3.2主要申请人分析
5.4技术发展路线
5.4.1三星
5.4.2东芝
5.4.3海力士
5.5非实体生产公司专利布局
5.6小结与建议
第6章攻防分析
6.1旺宏与飞索
6.1.1旺宏专利状况
6.1.2飞索专利状况
6.1.3旺宏与飞索专利诉讼
6.1.4专利比对
6.1.5小结与建议
6.2海力士与东芝
6.2.1海力士专利状况
6.2.2东芝专利状况
6.2.3战略联盟
6.2.4海力士与东芝闪迪专利诉讼
6.2.5专利比对
6.2.6小结与建议
第7章结论
7.1主要结论
7.1.1晶圆处理工序及其关键步骤
7.1.2先进逻辑器件及其制造工艺
7.1.33D
NAND存储器件及其制造工艺
7.1.4攻防分析
7.2主要建议
7.2.1企业建议
7.2.2行业建议
附录
图索引
表索引
序言
“十二五”期间，专利分析普及推广项目每年选择若干行业开展专利分析研究，推广专利分析成果，普及专利分析方法。《产业专利分析报告》（第1~48册）系列丛书自出版以来，受到各行业广大读者的广泛欢迎，有力推动了各产业的技术创新和转型升级。
2016年作为“十三五”的开局之年，专利分析普及推广项目继续秉承“源于产业、依靠产业、推动产业”的工作原则，在综合考虑来自行业主管部门、行业协会、创新主体的众多需求后，最终选定了10个产业开展专利分析研究工作。这10个产业包括无人机、芯片先进制造工艺、虚拟现实与增强现实、肿瘤免疫疗法、现代煤化工、海水淡化、智能可穿戴设备、高端医疗影像设备、特种工程塑料以及自动驾驶，均属于我国科技创新和经济转型的核心产业。近一年来，约100名专利审查员参与项目研究，对10个产业进行深入分析，几经易稿，形成了10份内容实、质量高、特色多、紧扣行业需求的专利分析报告，共计近万字、2000余幅图表。
2016年度的产业专利分析报告在加强方法创新的基础上，进一步深化了发明人合作关系、产品与专利、市场与专利、专利诉讼等多个方面的研究，并在课题研究中得到了充分的应用和验证。例如肿瘤免疫疗法课题组对施贵宝和默沙东的专利诉讼进行了深入研究，虚拟现实与增强现实课题组对产品和专利的关系进行了深入分析，无人机课题组尝试进行了开拓海外市场的专利分析。
2016年度专利分析普及推广项目的研究得到了社会各界的广泛关注和大力支持。来自社会各界的近百名行业和技术专家多次指导课题工作，为课题顺利开展作出了贡献。课题研究得到了工业和信息化部相关领导的重视，特别是工业和信息化部原材料司副司长潘爱华先生和科技司基础技术处副处长阮汝祥先生多次亲临指导。行业协会在课题开展过程中提供了极大的助力，尤其是中国石油和化学工业联合会副会长赵俊贵先生和联合会科技部副主任王秀江先生多次指导课题。《产业专利分析报告》（第49~58册）凝聚社会各界智慧，旨在服务产业发展。希望各地方政府、各相关行业、相关企业以及科研院所能够充分发掘专利分析报告的应用价值，为专利信息利用提供工作指引，为行业政策研究提供有益参考，为行业技术创新提供有效支撑。
由于报告中专利文献的数据采集范围和专利分析工具的限制，加之研究人员水平有限，报告的数据、结论和建议仅供社会各界借鉴研究。
文摘
版权页：
插图：
虽然三星和海力士的堆叠结构类似，但是从技术效果看，三星关注重点在于结构稳定性和存储单元密度，主要的结构重点在于层间互连结构、沟道和叠层结构，同时，三星在沟道材料的选择上也占一定比重，因此，其制造步骤的重点在于光刻与刻蚀以及深孔淀积。而海力士在技术效果方面偏重关注结构稳定性，在结构方面，层间互连结构、沟道、叠层结构和电荷捕获结构均有涉及。
东芝和闪迪的专利申请关注重点比较类似，在堆叠结构方面，两家公司的u型沟道和垂直沟道均占一定比重，但以U型沟道为主，对于技术效果，两家公司都重点关注存储单元密度。在关注的结构方面，东芝在几大公司中涉及面较全，除了叠层结构、沟道、层间互连结构、电荷捕获结构之外，外围电路和阵列布局也具有大量专利申请，因此，其制造步骤的重点在于光刻与刻蚀以及多层薄膜沉积。
旺宏专利申请涉及的堆叠类型较为广泛，垂直栅型、简单堆叠和垂直沟道各占一定比例，其中垂直栅型和简单堆叠类型比例较高，在技术效果方面，除了存储单元密度和结构稳定性之外，克服隧穿效应也是旺宏关注的一项重点，在结构改进方面，叠层结构和电荷捕获结构是其关注的重点，在工艺步骤方面，光刻与刻蚀是其关注重点。
特定产业的国内外知名企业的专利数据分析及行业分析预测。本书是了解相关行业技术发展现状并预测为了走向，企业做好专利预警的必备工具书。
作者简介
作者：审查业务部的各报告课题组，及相关行业协会。每个课题组有20-30个人组成，分别进行数据收集、整理、分析、制图、审核、统稿。
目录
第1章研究概述
1.1研究背景
1.1.1技术概况
1.1.2产业现状
1.1.3行业需求
1.2研究对象和方法
1.2.1技术分解
1.2.2数据检索
1.2.3查全率、查准率评估
1.2.4相关事项约定
第2章芯片制造工艺专利现状分析
2.1概述
2.1.1外延工艺简述
2.1.2光刻工艺简述
2.1.3刻蚀工艺简述
2.1.4掺杂工艺简述
2.1.5铜互连工艺简介
2.2全球专利申请状况
2.2.1全球专利申请态势分析
2.2.2全球主要申请人分析
2.2.3专利申请国别地区分布
2.3中国专利申请状况
2.3.1中国专利申请态势分析
2.3.2中国主要申请人分析
2.3.3法律状态分析
2.4小结与建议
第3章光刻技术专利现状分析
3.1概述
3.2浸没式光刻技术的专利分析
3.2.1全球专利申请状况
3.2.2中国专利申请状况
3.3多重图形光刻技术的专利分析
3.3.1全球专利申请状况
3.3.2中国专利申请状况
3.4电子束光刻技术的专利现状
3.4.1全球专利申请状况
3.4.2中国专利申请状况
3.5小结与建议
第4章先进逻辑器件结构及其制造工艺专利现状分析
4.1FinFET技术的专利现状
4.1.1概述
4.1.2全球专利申请态势分析
4.1.3中国专利申请态势分析
4.1.4FinFET技术发展路线
4.2FDSOI技术的专利现状
4.2.1概述
4.2.2全球专利申请态势分析
4.2.3中国专利申请态势分析
4.2.4FDSOI技术技术发展路线
4.3NWFET技术的专利现状
4.3.1概述
4.3.2全球专利申请态势分析
4.3.3中国专利申请态势分析
4.4小结与建议
第5章3D
NAND制造工艺的专利现状分析
5.1概述
5.2全球专利申请态势分析
5.2.1申请趋势分析
5.2.2主要技术分布
5.2.3重要申请人分析
5.2.4重要发明人分析
5.3中国专利申请态势分析
5.3.1申请趋势分析
5.3.2主要申请人分析
5.4技术发展路线
5.4.1三星
5.4.2东芝
5.4.3海力士
5.5非实体生产公司专利布局
5.6小结与建议
第6章攻防分析
6.1旺宏与飞索
6.1.1旺宏专利状况
6.1.2飞索专利状况
6.1.3旺宏与飞索专利诉讼
6.1.4专利比对
6.1.5小结与建议
6.2海力士与东芝
6.2.1海力士专利状况
6.2.2东芝专利状况
6.2.3战略联盟
6.2.4海力士与东芝闪迪专利诉讼
6.2.5专利比对
6.2.6小结与建议
第7章结论
7.1主要结论
7.1.1晶圆处理工序及其关键步骤
7.1.2先进逻辑器件及其制造工艺
7.1.33D
NAND存储器件及其制造工艺
7.1.4攻防分析
7.2主要建议
7.2.1企业建议
7.2.2行业建议
附录
图索引
表索引
序言
“十二五”期间，专利分析普及推广项目每年选择若干行业开展专利分析研究，推广专利分析成果，普及专利分析方法。《产业专利分析报告》（第1~48册）系列丛书自出版以来，受到各行业广大读者的广泛欢迎，有力推动了各产业的技术创新和转型升级。
2016年作为“十三五”的开局之年，专利分析普及推广项目继续秉承“源于产业、依靠产业、推动产业”的工作原则，在综合考虑来自行业主管部门、行业协会、创新主体的众多需求后，最终选定了10个产业开展专利分析研究工作。这10个产业包括无人机、芯片先进制造工艺、虚拟现实与增强现实、肿瘤免疫疗法、现代煤化工、海水淡化、智能可穿戴设备、高端医疗影像设备、特种工程塑料以及自动驾驶，均属于我国科技创新和经济转型的核心产业。近一年来，约100名专利审查员参与项目研究，对10个产业进行深入分析，几经易稿，形成了10份内容实、质量高、特色多、紧扣行业需求的专利分析报告，共计近万字、2000余幅图表。
2016年度的产业专利分析报告在加强方法创新的基础上，进一步深化了发明人合作关系、产品与专利、市场与专利、专利诉讼等多个方面的研究，并在课题研究中得到了充分的应用和验证。例如肿瘤免疫疗法课题组对施贵宝和默沙东的专利诉讼进行了深入研究，虚拟现实与增强现实课题组对产品和专利的关系进行了深入分析，无人机课题组尝试进行了开拓海外市场的专利分析。
2016年度专利分析普及推广项目的研究得到了社会各界的广泛关注和大力支持。来自社会各界的近百名行业和技术专家多次指导课题工作，为课题顺利开展作出了贡献。课题研究得到了工业和信息化部相关领导的重视，特别是工业和信息化部原材料司副司长潘爱华先生和科技司基础技术处副处长阮汝祥先生多次亲临指导。行业协会在课题开展过程中提供了极大的助力，尤其是中国石油和化学工业联合会副会长赵俊贵先生和联合会科技部副主任王秀江先生多次指导课题。《产业专利分析报告》（第49~58册）凝聚社会各界智慧，旨在服务产业发展。希望各地方政府、各相关行业、相关企业以及科研院所能够充分发掘专利分析报告的应用价值，为专利信息利用提供工作指引，为行业政策研究提供有益参考，为行业技术创新提供有效支撑。
由于报告中专利文献的数据采集范围和专利分析工具的限制，加之研究人员水平有限，报告的数据、结论和建议仅供社会各界借鉴研究。
文摘
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虽然三星和海力士的堆叠结构类似，但是从技术效果看，三星关注重点在于结构稳定性和存储单元密度，主要的结构重点在于层间互连结构、沟道和叠层结构，同时，三星在沟道材料的选择上也占一定比重，因此，其制造步骤的重点在于光刻与刻蚀以及深孔淀积。而海力士在技术效果方面偏重关注结构稳定性，在结构方面，层间互连结构、沟道、叠层结构和电荷捕获结构均有涉及。
东芝和闪迪的专利申请关注重点比较类似，在堆叠结构方面，两家公司的u型沟道和垂直沟道均占一定比重，但以U型沟道为主，对于技术效果，两家公司都重点关注存储单元密度。在关注的结构方面，东芝在几大公司中涉及面较全，除了叠层结构、沟道、层间互连结构、电荷捕获结构之外，外围电路和阵列布局也具有大量专利申请，因此，其制造步骤的重点在于光刻与刻蚀以及多层薄膜沉积。
旺宏专利申请涉及的堆叠类型较为广泛，垂直栅型、简单堆叠和垂直沟道各占一定比例，其中垂直栅型和简单堆叠类型比例较高，在技术效果方面，除了存储单元密度和结构稳定性之外，克服隧穿效应也是旺宏关注的一项重点，在结构改进方面，叠层结构和电荷捕获结构是其关注的重点，在工艺步骤方面，光刻与刻蚀是其关注重点。
| ISBN | 751304953X,9787513049535 |
|---|---|
| 出版社 | 知识产权出版社 |
| 作者 | 张茂于 |
| 尺寸 | 16 |