编辑推荐
《极紫外与软X射线多层膜偏振元件研究》适合高等院校师生参考使用。
目录
总序
论丛前言
前言
第1章 绪论
1.1 概述
1.2 偏振光学元件的发展和研究现状
1.3 极紫外和软X射线波段偏振光学元件应用
1.4 课题研究背景和研究内容
第2章 极紫外与软X射线多层膜偏振元件设计
2.1 概述
2.2 极紫外与软X射线周期多层膜偏振元件设计
2.3 极紫外与软X射线非周期多层膜偏振元件设计
2.3.1 宽带及宽角多层膜偏振光学元件膜系初始结构推导
2.3.2 极紫外与软X射线多层膜宽带偏振元件设计
2.3.3 极紫外与软X射线多层膜宽角偏振元件设计
2.3.4 极紫外与软X射线非周期透射多层膜偏振元件设计
2.4 本章小结
第3章 极紫外与软X射线多层膜偏振元件制备与检测
3.1 概述
3.2 溅射原理及磁控溅射设备简介
3.3 X射线衍射仪（XRD）
3.4 合肥国家同步辐射实验室（NSRL）反射率计
3.5 北京同步辐射装置（BSRF）偏振测量装置
3.6 德国柏林同步辐射实验室（BESSY）偏振测量装置
3.7 其他检测方法
3.8 本章小结
第4章 极紫外与软X射线多层膜偏振元件测试结果与分析
4.1 概述
4.2 XRD小角衍射测试
4.3 NSRL反射率测试结果
4.4 BSRF偏振测试结果
4.5 BESSY偏振测试结果
4.5.1 反射式周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.2 透射式周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.3 反射式Mo／Si非周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.4 反射式Mo／Y非周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.5 透射式Mo／Si非周期多层膜偏振元件测试结果与分析
4.6 本章小结
第5章 总结
5.1 主要研究成果
5.2 主要创新点
5.3 需要进一步解决的问题
参考文献
后记
文摘
版权页：
插图：
虽然利用递推公式可以得到膜层数，但是有时用这个膜层数目不能达到饱和的膜层结构，因此可以采用复制最上层多层膜厚度的办法来人为增加初值的周期数，如图2—8所示，在膜层数从1到20时，膜层的厚度梯度递减，从20到50层，是周期多层膜结构，主要是由于人为复制的结果。优化的多层膜厚度在初始值附近振荡，最小的膜层厚度为1 nm，最大厚度为11.2 nm，厚度分布符合磁控溅射方法的制备要求。在优化过程中，如果不限制多层膜的厚度范围，得到的个别膜层厚度会非常小，当厚度接近0时，则把该层厚度设为0，如果大于0.5 nm小于1 nm时，把该层厚度设为1 nm。这种人为修改一般不会影响多层膜的反射率曲线，得到这样的膜系结构有利于多层膜的制备。另外一种办法是在优化时设置多层膜厚度范围，但是有时会陷入局部极小值，得不到目标曲线。
在波长13 nm到19 nm范围内，Mo／Si是非常合适的材料组合，多层膜优化时目标RS值为0.25，所用膜层的周期数为40。如图2—9所示，利用数值分析方法，由初始膜系直接得到的RS0（曲线1）已经具有宽带特性，只是与目标带宽还有差距，在13～19 nm范围内优化RS（曲线2）反射率达到0.25，同时RS反射率曲线在该波段为平直的，对应偏振度（曲线4）大于0.95，达到了设计的要求。
《极紫外与软X射线多层膜偏振元件研究》适合高等院校师生参考使用。
目录
总序
论丛前言
前言
第1章 绪论
1.1 概述
1.2 偏振光学元件的发展和研究现状
1.3 极紫外和软X射线波段偏振光学元件应用
1.4 课题研究背景和研究内容
第2章 极紫外与软X射线多层膜偏振元件设计
2.1 概述
2.2 极紫外与软X射线周期多层膜偏振元件设计
2.3 极紫外与软X射线非周期多层膜偏振元件设计
2.3.1 宽带及宽角多层膜偏振光学元件膜系初始结构推导
2.3.2 极紫外与软X射线多层膜宽带偏振元件设计
2.3.3 极紫外与软X射线多层膜宽角偏振元件设计
2.3.4 极紫外与软X射线非周期透射多层膜偏振元件设计
2.4 本章小结
第3章 极紫外与软X射线多层膜偏振元件制备与检测
3.1 概述
3.2 溅射原理及磁控溅射设备简介
3.3 X射线衍射仪（XRD）
3.4 合肥国家同步辐射实验室（NSRL）反射率计
3.5 北京同步辐射装置（BSRF）偏振测量装置
3.6 德国柏林同步辐射实验室（BESSY）偏振测量装置
3.7 其他检测方法
3.8 本章小结
第4章 极紫外与软X射线多层膜偏振元件测试结果与分析
4.1 概述
4.2 XRD小角衍射测试
4.3 NSRL反射率测试结果
4.4 BSRF偏振测试结果
4.5 BESSY偏振测试结果
4.5.1 反射式周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.2 透射式周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.3 反射式Mo／Si非周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.4 反射式Mo／Y非周期多层膜偏振元件测试结果
4.5.5 透射式Mo／Si非周期多层膜偏振元件测试结果与分析
4.6 本章小结
第5章 总结
5.1 主要研究成果
5.2 主要创新点
5.3 需要进一步解决的问题
参考文献
后记
文摘
版权页：
插图：
虽然利用递推公式可以得到膜层数，但是有时用这个膜层数目不能达到饱和的膜层结构，因此可以采用复制最上层多层膜厚度的办法来人为增加初值的周期数，如图2—8所示，在膜层数从1到20时，膜层的厚度梯度递减，从20到50层，是周期多层膜结构，主要是由于人为复制的结果。优化的多层膜厚度在初始值附近振荡，最小的膜层厚度为1 nm，最大厚度为11.2 nm，厚度分布符合磁控溅射方法的制备要求。在优化过程中，如果不限制多层膜的厚度范围，得到的个别膜层厚度会非常小，当厚度接近0时，则把该层厚度设为0，如果大于0.5 nm小于1 nm时，把该层厚度设为1 nm。这种人为修改一般不会影响多层膜的反射率曲线，得到这样的膜系结构有利于多层膜的制备。另外一种办法是在优化时设置多层膜厚度范围，但是有时会陷入局部极小值，得不到目标曲线。
在波长13 nm到19 nm范围内，Mo／Si是非常合适的材料组合，多层膜优化时目标RS值为0.25，所用膜层的周期数为40。如图2—9所示，利用数值分析方法，由初始膜系直接得到的RS0（曲线1）已经具有宽带特性，只是与目标带宽还有差距，在13～19 nm范围内优化RS（曲线2）反射率达到0.25，同时RS反射率曲线在该波段为平直的，对应偏振度（曲线4）大于0.95，达到了设计的要求。
| ISBN | 9787560869322 |
|---|---|
| 出版社 | 同济大学出版社 |
| 作者 | 王洪昌 |
| 尺寸 | 16 |