| 开本：16开 |
| 纸张：胶版纸 |
| 包装：平装-胶订 |
| 是否套装：否 |
| 国际标准书号ISBN：9787111799115 |
| 所属分类：图书>工业技术>工具书/标准 |
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宣传点：基础理论与研发实例紧密结合，系统性讲解半导体离子注入设备的工作原理与工艺架构。宣传点：全面介绍典型离子源与加速器、束流传输与扫描系统、掩膜与机台集成设计，以及电荷状态控制、能量与剂量精度校准、热与机械稳定性保障等技术。作者介绍，陈译，男，厦门理工学院教授，获得日本国立琉球大学电气电子工学专业博士学位，厦门市双百人才，于年月进入日本三垦电气株式会社，从事功率半导体器件（、、 、 ）的研发与产业化，经历了先进功率半导体产业和技术发展的重要过程，参与或领导团队研发了个品种以上的功率器件并实现产业化。其主持研制的、芯片已卖出数百万片（其中芯片主要供货给格力电器），总产值超过亿日元。截止目前，拥有授权和受理发明专利余项，实用新型专利余项，发表科研论文篇。在我社出版的《芯片制造——半导体工艺与设备》累计销量超过余册。
内容简介
本书围绕离子注入展开系统介绍，第章为绪论，用于奠定知识基础，后续章节依次介绍离子注入的应用（涵盖在器件、芯片等先进制造工艺等场景）、分布规律、存在的缺陷与修复手段，还对离子注入的技术开拓与拓展应用做了介绍。同时，本书详细剖析了离子注入设备系统，从系统概览与构造发展，到核心部件、相关技术，再到辅助部件、原材料，最后以实例呈现离子注入设备的应用，全方位展现了离子注入技术的知识体系。
本书适合材料科学、半导体技术等领域的科研人员阅读，可助力其深入研究离子注入技术的原理与应用。本书也适合电子制造、器件研发等行业的工程技术人员阅读，可辅助其掌握设备的构造与实际运用。对于高等院校材料、微电子、集成电路等专业的师生，本书可作为教学与学习参考资料，帮助构建系统性的离子注入知识体系。
作者简介
陈译，男，厦门理工学院教授，获得日本国立琉球大学电气电子工学专业博士学位，厦门市双百人才，于年月进入日本三垦电气株式会社，从事功率半导体器件（、、 、 ）的研发与产业化，经历了先进功率半导体产业和技术发展的重要过程，参与或领导团队研发了个品种以上的功率器件并实现产业化。其主持研制的、芯片已卖出数百万片（其中芯片主要供货给格力电器），总产值超过亿日元。截止目前，拥有授权和受理发明专利余项，实用新型专利余项，发表科研论文篇。
目 录
前言
第章 绪论
离子注入原理的提出：肖克利的远见
离子注入技术的发展历程
世纪年代围绕实用化展开的争论
第章 离子注入技术的应用
离子注入技术在现代半导体制造中的核心地位
为何从离子注入角度理解工艺更直观
离子注入技术在中的商用化
微量掺杂也能精准控制
利用光阻实现选择性注入
注入深度只需靠电压就能轻松控制
任何离子均可注入
聚焦离子束（）技术前言
第章 绪论
离子注入原理的提出：肖克利的远见
离子注入技术的发展历程
世纪年代围绕实用化展开的争论
第章 离子注入技术的应用
离子注入技术在现代半导体制造中的核心地位
为何从离子注入角度理解工艺更直观
离子注入技术在中的商用化
微量掺杂也能精准控制
利用光阻实现选择性注入
注入深度只需靠电压就能轻松控制
任何离子均可注入
聚焦离子束（）技术
第章 离子注入的分布
离子注入简化模型
离子注入损伤的最终形态：非晶态
敲击（）效应
离子注入分布的预测与计算
通道效应
第章 离子注入的缺陷与修复
热处理下离子注入缺陷的修复
……
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商品详情
宣传点：基础理论与研发实例紧密结合，系统性讲解半导体离子注入设备的工作原理与工艺架构。宣传点：全面介绍典型离子源与加速器、束流传输与扫描系统、掩膜与机台集成设计，以及电荷状态控制、能量与剂量精度校准、热与机械稳定性保障等技术。作者介绍，陈译，男，厦门理工学院教授，获得日本国立琉球大学电气电子工学专业博士学位，厦门市双百人才，于年月进入日本三垦电气株式会社，从事功率半导体器件（、、 、 ）的研发与产业化，经历了先进功率半导体产业和技术发展的重要过程，参与或领导团队研发了个品种以上的功率器件并实现产业化。其主持研制的、芯片已卖出数百万片（其中芯片主要供货给格力电器），总产值超过亿日元。截止目前，拥有授权和受理发明专利余项，实用新型专利余项，发表科研论文篇。在我社出版的《芯片制造——半导体工艺与设备》累计销量超过余册。
内容简介
本书围绕离子注入展开系统介绍，第章为绪论，用于奠定知识基础，后续章节依次介绍离子注入的应用（涵盖在器件、芯片等先进制造工艺等场景）、分布规律、存在的缺陷与修复手段，还对离子注入的技术开拓与拓展应用做了介绍。同时，本书详细剖析了离子注入设备系统，从系统概览与构造发展，到核心部件、相关技术，再到辅助部件、原材料，最后以实例呈现离子注入设备的应用，全方位展现了离子注入技术的知识体系。
本书适合材料科学、半导体技术等领域的科研人员阅读，可助力其深入研究离子注入技术的原理与应用。本书也适合电子制造、器件研发等行业的工程技术人员阅读，可辅助其掌握设备的构造与实际运用。对于高等院校材料、微电子、集成电路等专业的师生，本书可作为教学与学习参考资料，帮助构建系统性的离子注入知识体系。
作者简介
陈译，男，厦门理工学院教授，获得日本国立琉球大学电气电子工学专业博士学位，厦门市双百人才，于年月进入日本三垦电气株式会社，从事功率半导体器件（、、 、 ）的研发与产业化，经历了先进功率半导体产业和技术发展的重要过程，参与或领导团队研发了个品种以上的功率器件并实现产业化。其主持研制的、芯片已卖出数百万片（其中芯片主要供货给格力电器），总产值超过亿日元。截止目前，拥有授权和受理发明专利余项，实用新型专利余项，发表科研论文篇。
目 录
前言
第章 绪论
离子注入原理的提出：肖克利的远见
离子注入技术的发展历程
世纪年代围绕实用化展开的争论
第章 离子注入技术的应用
离子注入技术在现代半导体制造中的核心地位
为何从离子注入角度理解工艺更直观
离子注入技术在中的商用化
微量掺杂也能精准控制
利用光阻实现选择性注入
注入深度只需靠电压就能轻松控制
任何离子均可注入
聚焦离子束（）技术前言
第章 绪论
离子注入原理的提出：肖克利的远见
离子注入技术的发展历程
世纪年代围绕实用化展开的争论
第章 离子注入技术的应用
离子注入技术在现代半导体制造中的核心地位
为何从离子注入角度理解工艺更直观
离子注入技术在中的商用化
微量掺杂也能精准控制
利用光阻实现选择性注入
注入深度只需靠电压就能轻松控制
任何离子均可注入
聚焦离子束（）技术
第章 离子注入的分布
离子注入简化模型
离子注入损伤的最终形态：非晶态
敲击（）效应
离子注入分布的预测与计算
通道效应
第章 离子注入的缺陷与修复
热处理下离子注入缺陷的修复
……
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