半导体镀膜领域重点技术竞争格局及专利评判要点 9787524501060

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开本:3开
纸张:胶版纸
包装:平装
是否套装:否
国际标准书号ISBN:9787524501060
所属分类:图书>工业技术>电子通信>半导体技术
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本书作者是专利审查领域审查员,内容实践性强。

基本信息

商品名称:半导体镀膜领域重点技术竞争格局及专利评判要点开本:开
作者:曹旭、崔海云、李娇定价:
号:出版时间:
:知识产权印刷时间:
版次:印次:
第 章 半导体镀膜领域的重要基础技术
物理气相沉积
化学气相沉积
电镀
化学镀
半导体清洗
抛光
刻蚀
第 章 半导体镀膜领域的主要厂商
半导体镀膜领域的厂商分类
重要半导体设备厂商
半导体设备的国产化情况
国内主要半导体设备厂商
第 章 半导体镀膜领域的专利竞争格局
相关说明
专利态势分析
中国专利态势分析
第 章 结合重点技术的典型案例评判提示
腔室结构
靶材
辅助装置
沉积工艺改良
掩膜板
衬底
工艺溶液
电镀阳极组件
第 章 半导体镀膜技术的新进展
磁控溅射
原子层沉积
化学气相沉积
电化学技术
化学镀
辅助组件及结构
参考文献
本书针对半导体镀膜制程的技术特点 介绍了半导体镀膜领域的重要基础技术 围绕产业链分工 介绍了国内外重要的半导体设备厂商以及半导体设备的国产替代情况分析了半导体镀膜技术的专利竞争格局 其次 结合重点技术的典型案例分析了专利评判等法律适用过程中的疑难问题 结合领域新近研究成果提炼了半导体镀膜技术的新研究进展和未来可能的发展方向。
曹旭,知识产权局专利局专利审查协作北京中心材料部材料工程复审一室副主任,副研究员,知识产权局首批知识产权分析研究人才,具备法律职业资格,局骨干人才,福建知识产权专家库专家,在审查业务、专利分析、咨询服务、法律制度等各方面均有深入研究,曾获北京中心青年岗位能手、廉政勤政先进个人、专利服务先进个人等多项荣誉。
崔海云,知识产权局专利局专利审查协作北京中心材料部材料工程复审一室主任,副研究员,局高层次人才、局培训师资。年月进入知识产权局专利局专利审查协作北京中心,先后在化学部、材料部工作。曾作为项目联系人组织完成专利导航项目、课题研究多项,并在《中国知识产权报》及其他专业报刊上发表多篇文章。
李娇,知识产权局专利局专利审查协作北京中心材料部冶金工程室导师级审查员,擅长冶金领域案件实质审查,兼任新型初审、新型评价报告、检索、发明复审等审查工作,业务类型全面,能力扎实,曾获年知识产权局检索大赛一等,知识产权局“四好”党员,部门检索先锋,先锋党务工作者等多项荣誉。